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磁控濺射法ZnO薄膜制備工藝的優化  用射频磁控溅射制备ZnO 薄膜,研究了溅射功率、溅射气体中氧氩以及工作气压对薄膜结构和光学性能的影响。通过对不同制备条件下的薄膜结构和薄膜的室温透射谱的分析,得到了磁控溅射制备ZnO 薄膜的最佳工艺参数...

MgO/Au複合薄膜的反應射頻磁控濺射法制備及表面形貌研究  采用反应射频磁控溅射法制备MgO/Au 复合薄膜,并对使用Mg 靶和Au 靶共溅射、分步溅射方式以及在不同的衬底温度和Ar /O2气体流量比下制备的样品进行X 射线光电子能谱、X...

真空工艺 | 表面净化处理的基本方法:蒸汽清洗蒸气清洗主要适用于清除基片表面油脂膜和类脂膜等碳氢化物,对于带有牢固附着污染物和污染很严重的基片,当用擦洗和浸洗或超声波清洗方法清洗以后,再用蒸汽清洗会得到很好的清洗效果。蒸汽脱脂清洗  这种方...

Zn摻雜TiO2薄膜紫外探測器及其光電性能研究  近年来TiO2与ZnO等作为紫外探测材料已引起人们的关注。TiO2是一种禁带宽度较大的半导体材料,其锐钛矿相TiO2带隙约为3.2eV,具有较高的载流子迁移率,能胜任高温和腐蚀性环境,有利于...

真空鍍鋁工藝  真空镀铝是在真空状态下,将铝金属加热熔融至蒸发,铝原子凝结在高分子材料表面,形成极薄的铝层。真空镀铝要求基材表面光滑、平整、厚度均匀;挺度和摩擦系数适当;表面张力大于38Dyn/Cm2;热性能好,经得起蒸发源的热辐射和冷凝热...

多层膜CIA预制层后硒化法制备Cu(In1- xAlx)Se2薄膜的研究  本文用真空蒸发法在玻璃衬底上蒸镀Cu- In- Al 多层膜,后采用真空硒化退火获得Al 含量不同的Cu(In1- xAlx)Se2多晶薄膜。通过SEM和XRD 微...

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